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真空蒸發(fā)鍍膜法的工作原理

作者:奧固鴻已有:N多人關(guān)注

真空蒸發(fā)鍍膜法簡(jiǎn)稱真空鍍膜，是在真空室中加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸汽流，入射到固體（稱為襯底或基片）表面，凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。由于真空蒸發(fā)法或真空蒸鍍法主要的物理過程是通過加熱蒸發(fā)材料而產(chǎn)生的，所以又稱熱蒸發(fā)法。
任何物質(zhì)在一定溫度下，總有一些分子從凝聚態(tài)（固態(tài)或液態(tài)）變成氣態(tài)離開物質(zhì)表面，但固體在常溫常壓下，這種蒸發(fā)量是極微小的。如果將固體材料置于真空中加熱至此材料蒸發(fā)溫度時(shí)，在汽化熱的作用下，材料的分子或原子具有足夠的熱震動(dòng)能量去克服固體表面原子間的吸引力，并以一定速度逸出變成氣態(tài)分子或原子向四周迅速蒸發(fā)散射。
真空蒸發(fā)鍍膜法是在高真空中，將鍍膜材料加熱到高溫，相應(yīng)溫度下的飽和蒸汽就在真空槽中散發(fā)，蒸發(fā)原子在各個(gè)方向的通量并不相等。基體設(shè)在蒸汽源的上方阻擋蒸汽流，且使基體保持相對(duì)較低的溫度，蒸汽則在其上形成凝固膜。
目前，采用真空蒸鍍法生產(chǎn)鍍膜玻璃均是間歇式生產(chǎn)，其工藝流程如圖所示。
真空蒸發(fā)鍍膜可分為電阻蒸發(fā)源蒸鍍法、電子束蒸發(fā)源蒸鍍法、高頻感應(yīng)蒸發(fā)源蒸鍍法以及激光束蒸發(fā)源蒸鍍法四種方式。