光學(xué)玻璃的研磨主要是機(jī)械破壞作用，磨料滲人表面裂紋間，促使其擴(kuò)展，并將交織在裂紋間的玻璃屑沖刷掉，從而加速研磨過程。研磨時(shí)，通常先以粗磨料磨去較多量的玻璃，繼之用細(xì)磨料，直至表面留下極淺的凹凸層和裂紋層。所用研磨盤由鑄鐵等材料制成，盤面有溝槽，以利于從盤中央進(jìn)來的磨料均勻分布，也有利于玻璃屑的排除。
影響光學(xué)玻璃研磨的工藝因素有：磨料性質(zhì)和粒度、研磨盤的壓力和轉(zhuǎn)速、磨盤材質(zhì)、磨料料漿的介質(zhì)、加水量和玻璃組分。
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