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氣體壓力的變化對濺射室內(nèi)的放電有什么影響？
作者:奧固鴻已有:N多人關(guān)注
在濺射時(shí)，氣體壓力的變化對濺射室內(nèi)的放電有不同的影響，一般來說，濺射室內(nèi)氣體壓力增大，會(huì)引起放電電流增大、逆散射增加，因互相碰撞而使帶能粒子減速；氣體壓力降低結(jié)果則相反，濺射粒子的能量在到達(dá)基片表面時(shí)轉(zhuǎn)變?yōu)闊崮?。濺射裝置的真空系統(tǒng)應(yīng)有高的抽氣速率，以便迅速抽出濺射室內(nèi)的殘余氣體。在放電區(qū)附近，必須避免存在壓力梯度，因?yàn)檫@種壓力梯度會(huì)造成放電的不均勻性，導(dǎo)致膜層不均。
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